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dic-global 超純水用防靜電裝置 eFLOW系列 -精密防靜電技術(shù)的革新方案

更新時(shí)間:2026-01-10      瀏覽次數(shù):32

DIC Global eFLOW系列超純水電阻率調(diào)控裝置:精密防靜電技術(shù)的革新方案在半導(dǎo)體制造與平板顯示(FPD)產(chǎn)業(yè)的超純水應(yīng)用中,靜電引發(fā)的微粒子再附著與基板圖案靜電破壞是導(dǎo)致產(chǎn)品良率下降的隱性殺手。傳統(tǒng)防靜電方法難以在維持水質(zhì)純度的前提下實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)控制。DIC Global推出的eFLOW系列超純水用防靜電裝置,通過技術(shù)的中空纖維透氣膜CO?溶解技術(shù),為這一行業(yè)難題提供了兼具高純度、高精度與高穩(wěn)定性的解決方案。

一、技術(shù)原理:CO?溶解與電阻率精準(zhǔn)調(diào)控1.1 核心工作機(jī)制eFLOW系列采用DIC自主開發(fā)的中空纖維透氣膜模組,將高純二氧化碳(CO?)高效溶解至超純水(DIW)中。其工作原理為:溶解過程:DIW在中空纖維膜內(nèi)部流動(dòng),CO?從膜外側(cè)滲透溶解。微細(xì)化纖維膜束提供了巨大的氣液接觸表面積,實(shí)現(xiàn)快速、均勻的CO?溶解。離子化反應(yīng):溶解的CO?在DIW中形成碳酸,電離產(chǎn)生H?與HCO??離子,使原本絕緣的超純水具備可控導(dǎo)電性,從而有效耗散靜電荷?;旌媳日{(diào)控:通過精確調(diào)節(jié)CO?飽和水與純DIW的混合比例,可將電阻率值穩(wěn)定控制在0.15~1.9 MΩ·cm范圍內(nèi),精度達(dá)±0.03 MΩ·cm,確保防靜電效果與工藝要求的平衡。1.2 結(jié)構(gòu)優(yōu)勢(shì)該方案摒棄了傳統(tǒng)膜接觸器的復(fù)雜結(jié)構(gòu),無需高價(jià)CO?滲透膜等耗材,也無CO?排氣與廢水排放問題,系統(tǒng)簡(jiǎn)化帶來故障率顯著降低

1.2 結(jié)構(gòu)優(yōu)勢(shì)該方案摒棄了傳統(tǒng)膜接觸器的復(fù)雜結(jié)構(gòu),無需高價(jià)CO?滲透膜等耗材,也無CO?排氣與廢水排放問題,系統(tǒng)簡(jiǎn)化帶來故障率顯著降低。二、產(chǎn)品陣容:模塊化設(shè)計(jì)滿足不同工況eFLOW系列提供Panel mount(P系列)與Cabinet(C系列)兩種安裝形態(tài),覆蓋1-50 L/min流量范圍:P系列(機(jī)架安裝型)eFLOW 1AP-B02:1–16 L/min,單模組PF-001L-NAeFLOW 2AP-B01:5–30 L/min,雙模組PF-001L-ND2eFLOW 3AP-B01:10–50 L/min,雙模組PF-001L-ND3C系列(機(jī)柜型)eFLOW 1AC-P201:1–16 L/min,單模組PF-001L-NAeFLOW 2AC-P201:5–30 L/min,雙模組PF-001L-ND2eFLOW 3AC-P201:10–50 L/min,雙模組PF-001L-ND3「2AP/2AC及3AP/3AC型號(hào)裝載雙CO?溶解模組」  ,可確保大流量工況下的溶解效率與響應(yīng)速度

三、核心競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)3.1 長(zhǎng)壽命與低運(yùn)維成本CO?供氣模組保證期限長(zhǎng)達(dá)5年(DIC自制),遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)膜組件的1-2年使用壽命。結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單:無運(yùn)動(dòng)部件,管路分配方式獨(dú)特,長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性優(yōu)異。3.2 高精度快速響應(yīng)控制精度:±0.03 MΩ·cm的電阻率控制精度,確保工藝一致性。水量變動(dòng)應(yīng)答速度快:即使流量大幅波動(dòng),系統(tǒng)也能迅速調(diào)整,維持出口電阻率穩(wěn)定,滿足清洗工藝中斷續(xù)用水的需求。3.3 環(huán)保與兼容性經(jīng)濟(jì)環(huán)保:無需消耗性膜材料,無CO?廢氣與廢水排放,運(yùn)行成本降低40%以上。雙氧水殺菌對(duì)應(yīng):全系列支持3% H?O?循環(huán)殺菌,有效解決微生物滋生問題,符合半導(dǎo)體行業(yè)嚴(yán)格的潔凈要求。3.4 寬泛的工況適應(yīng)性高水壓環(huán)境:使用壓力達(dá)0.5 MPa,可靈活配置于高壓噴射清洗等場(chǎng)景。低壓力損失:在3000 L/h(50 L/min)流量下,壓力損失僅0.06 MPa,對(duì)上游泵送系統(tǒng)影響極小。

四、典型應(yīng)用領(lǐng)域eFLOW系列在半導(dǎo)體與FPD制造的關(guān)鍵清洗制程中發(fā)揮核心作用:掩模/網(wǎng)袋清洗:防止靜電導(dǎo)致的光罩圖案損傷與顆粒吸附洗滌器(Scrubber)清洗:確保晶圓表面清洗過程中的靜電耗散高壓噴射清洗:在0.5 MPa壓力下穩(wěn)定控制電阻率,避免噴射過程中的靜電累積切割工序(Dicing)清洗:晶圓切割后清洗時(shí),抑制因靜電造成的微粒子再附著槽式(Batch)清洗:大流量槽體清洗中維持全槽電阻率均勻性這些應(yīng)用場(chǎng)景的共同特點(diǎn)是:超純水用量大、流速快、工藝對(duì)靜電敏感度高,eFLOW系列通過主動(dòng)式CO?注入,將靜電影像降至低。五、技術(shù)價(jià)值與行業(yè)影響DIC eFLOW系列不僅是一項(xiàng)產(chǎn)品,更是超純水系統(tǒng)防靜電策略的范式轉(zhuǎn)變。它克服了傳統(tǒng)被動(dòng)式防靜電(如接地、離子風(fēng))在液體環(huán)境中效果有限的弊端,通過主動(dòng)改變介質(zhì)電學(xué)特性實(shí)現(xiàn)源頭控制。相比同類產(chǎn)品,其5年模組壽命與±0.03 MΩ·cm控制精度的"雙高"指標(biāo),顯著降低了全生命周期成本(TCO)。在12英寸晶圓廠中,單臺(tái)eFLOW 3AC-P201可支持每月5萬片產(chǎn)能的清洗工藝,靜電相關(guān)缺陷改善率超過90%。六、結(jié)語(yǔ)隨著制程微縮至3nm及以下,超純水系統(tǒng)對(duì)靜電控制的要求已從"可選"變?yōu)?必修"。DIC Global eFLOW系列憑借其的中空纖維膜CO?溶解技術(shù)、長(zhǎng)壽命模組設(shè)計(jì)與高精度控制能力,已成為半導(dǎo)體與FPD行業(yè)超純水防靜電的事實(shí)標(biāo)準(zhǔn)。對(duì)于追求率與少運(yùn)營(yíng)成本的制造工廠而言,eFLOW不僅是設(shè)備選型,更是保障工藝窗口與產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力的戰(zhàn)略投資。


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