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技術(shù)文章/ article
更新時(shí)間：2024-01-20 
瀏覽次數(shù)：522在半導(dǎo)體開(kāi)發(fā)/制造過(guò)程中，去除顆粒、水分和氧氣等干擾因素是一個(gè)主要問(wèn)題。為了確認(rèn)干擾的消除，
我們的露點(diǎn)計(jì)、溫度/濕度計(jì)和氧濃度計(jì)被用于半導(dǎo)體制造、運(yùn)輸和檢查等各種過(guò)程。也用于除濕空氣
（干燥空氣）的除濕以及氮?dú)狻鍤?、氦氣、氫氣等氣體純度的測(cè)量和控制。相反，某些過(guò)程需要高水
分含量，在這些過(guò)程中，露點(diǎn)計(jì)用于保持恒定的水分含量。主要使用以下產(chǎn)品。
① 將水分含量控制在極微量（ppb 至個(gè)位數(shù) ppm）的過(guò)程
? 可測(cè)量低至 -100 ℃ 露點(diǎn)的 TK-100 電容式露點(diǎn)計(jì)（氧化鋁型） ? TE-660
控制的過(guò)程
露點(diǎn)至少-60°C的露點(diǎn)計(jì)（聚合物型）
③ 最重要的工藝，作為露點(diǎn)計(jì)的標(biāo)準(zhǔn)
? MBW鏡面冷卻型能夠測(cè)量-95°C至+99°C的露點(diǎn)（鏡面式）露點(diǎn)計(jì)
④ 需要控制相對(duì)濕度水平的工藝和潔凈室
? 簡(jiǎn)易型號(hào) EE060
⑤ 需要大量水分并需要控制恒定含水量的工藝
? 主要用于高溫高濕下的測(cè)量EE33 溫濕度計(jì)，具有防冷凝措施
① 需要通過(guò)氫氣置換
等去除氧氣的工藝 ? 可確認(rèn) 1 ppm 或更低的 2001LC 原電池氧濃度計(jì)
② 需要在沒(méi)有氫氣的情況下測(cè)量痕量氧氣濃度的工藝
? 能夠測(cè)量高達(dá) ppb 水平的型號(hào)4100氧化鋯氧氣濃度計(jì)
① 在潔凈室和制造設(shè)備中氣流非常重要的過(guò)程
? 可測(cè)量微風(fēng)的風(fēng)速計(jì)
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